聚光科技ICP-MS（等離子體質譜分析儀）自(zì)2020年全力推進半導體領域，近期，部分産品（科學儀器）實現(xiàn)集成電路制造頭部企業測試，目前産品穩定運行。

       聚光科技于2015年分拆自(zì)身質譜業務成立子公司譜育科技。譜育科技已掌握多個質譜分析技術平台，針對(duì)半導體行業檢測需求，推出一系列高(gāo)精度檢測儀器及在線監測系統，助力行業突破“卡脖子”關鍵技術。

        半導體産品制造過程分爲晶圓加工(gōng)、氧化、光刻、刻蝕等八大(dà)步驟，涉及矽片、電子氣體、光掩模、光刻膠配套化學品等多類制造材料。統計(jì)數據顯示，半導體元件制造業中約50%的産率損失是由産品及材料制造流程中的微量雜(zá)質污染導緻。

        ITRS（國際半導體技術線路圖）提出，在超純水(shuǐ)、電子化學品、電子特氣、晶圓制造環境等各個環節，均需進行嚴格的環境污染管控及污染物檢測；如何将污染降低(dī)到(dào)最小(xiǎo)是半導體制程過程提升良率的難點。半導體器件生産過程中涉及的化學品種類繁多、測試元素種類衆多且檢測精度要求ppt量級，都對(duì)設備性能(néng)及操作(zuò)人員的污染控制技術提出苛刻要求。另外(wài)，随着半導體器件的尺寸不斷縮小(xiǎo)、芯片中元件的密度不斷增加，生産過程中的污染控制也(yě)愈發嚴格。

       業内人士介紹稱，ICP-MS技術尤其四極杆型ICP-MS技術具備極低(dī)的檢測限和(hé)快(kuài)速多元素測定功能(néng)，已逐漸成爲半導體行業污染分析實驗室的标準技術，在矽片表面雜(zá)質分析、超純水(shuǐ)、超純試劑分析、高(gāo)純氣體分析等多個方面應用(yòng)廣泛。目前，半導體行業所使用(yòng)的ICP-MS基本被美(měi)國及日本廠(chǎng)商壟斷。

       公開(kāi)資料顯示，譜育科技深耕高(gāo)端科學儀器創新，在高(gāo)端質譜領域積累了(le)離子阱、四極杆、三重四極杆、飛(fēi)行時(shí)間等多個質譜分析技術平台。公司已建立半導體潔淨實驗室（100級），在2021年相繼推出了(le)冷模式ICPMS以及三重四極杆ICPMS/MS,兩款設備可以實現(xiàn)亞ppt級别的超痕量金(jīn)屬檢測，打破了(le)海外(wài)廠(chǎng)商對(duì)超痕量金(jīn)屬測試設備的壟斷。此外(wài)，公司針對(duì)14nm、28nm等高(gāo)端制程半導體企業開(kāi)發的實時(shí)監測系統得到(dào)了(le)各級集成電路基金(jīn)的支持，其中一部分産品已經完成研發，處于樣闆點建立階段。

       基于譜育科技的研發實力，聚光科技于2020年成立半導體事(shì)業部，整合自(zì)身質譜、光譜、色譜等高(gāo)精密檢測分析技術，以及各類進樣技術和(hé)軟件算(suàn)法等綜合能(néng)力，推出一系列解決方案，覆蓋了(le)痕量/超痕量金(jīn)屬污染檢測、潔淨室AMC在線監測、蝕刻劑近紅(hóng)外(wài)分析、特氣監測與預警等半導體全産業鏈精密檢測分析領域。

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